Fotografía superior. El equipo de investigadores de la Universidad de Illinois

Son varias las aplicaciones industriales y comerciales que tienen que lidiar con el hielo en sus instalaciones, para contrarrestarlo son necesarios procesos de deshielo que, por lo general, implican grandes consumos de energía debido a que son ineficientes.

Investigadores de la Universidad de Illinois (EUA) y de la Universidad Kyushu (Japón) proponen el uso de una capa fina de óxido de indio y estaño sobre las superficies; esta película conductora  envía un pulso de corriente muy alta a la interfaz entre el hielo y la superficie para crear una capa de agua, y del resto se encarga la gravedad. En un escenario real, la gravedad sería asistida por el flujo de aire. “Este nuevo enfoque es más eficiente que los métodos convencionales”, dijo Nenad Miljkovic, profesor de ciencias mecánicas e ingeniería de la universidad norteamericana.

El proceso tradicional requiere calentar componentes de los sistemas afectados, en lugar de calentar directamente el hielo o la escarcha. El sistema de enfriamiento se apaga para iniciar el proceso de calentamiento, mientras tanto las operaciones se detienen. Esto implica paros intermitentes, y al finalizar el deshielo se debe volver a enfriar el sistema, lo que significa un gran gasto de energía. Sin embargo, la nueva propuesta usa menos del 1 por ciento de energía y menos del 0.01 por ciento del tiempo que el deshielo convencional.

Fuente: Universidad de Illinois